Mayoritaria Presencia de Artistas Extranjeros en Photoespaña 2009

Como ya os hemos informado con anterioridad, en los meses de Junio Y Julio tendrá lugar la edición 2009 de PHOTOESPAÑA.
España estará representada por 25 artistas, que representan algo más de un tercio del total de participantes. El resto, hasta los 70 que participan de forma individual son extranjeros.

Este año Photoespaña tendrá exposiciones en Madrid, Cuenca y Lisboa y será Estados Unidos la que cuente con un mayor porcentaje de artistas participantes: Annie Leibovitz, Dorothea Lange, Jeff Cowen, Jenny Holzer, Larry Sultán, Mike Mandel y Vik Muniz, seguida de Alemania con un total de 5 y China con 4 artistas representados.

La edición 2009 contará con obras de artistas tan representativos como Guido Anderloni, Mauro Restiffe, Gerhard Richter, ect. y provenientes de Italia, Alemania, Mali, Brasil, Líbano, Ucrania y así hasta un total de 21 países.